產(chǎn)品時(shí)間:2024-10-17
產(chǎn)品特點(diǎn) 1. 旋轉(zhuǎn)電機(jī)采用專為勻膠機(jī)設(shè)計(jì)的精密高速伺服電機(jī),具有高精度、高穩(wěn)定性、高可靠性。 2. 優(yōu)異的旋轉(zhuǎn)加速性能,蕞大旋轉(zhuǎn)加速度可達(dá)50000rpm/s(有負(fù)載的真實(shí)加速度)。 3. 兩項(xiàng)安全互鎖功能:
【12英寸】 SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋涂儀
一. 產(chǎn)品應(yīng)用
SYSC-300系列高精度程控旋涂儀(Spin Coater),其蕞高轉(zhuǎn)速可達(dá)10000rpm,蕞大旋轉(zhuǎn)加速度可達(dá)50000rpm/s(有負(fù)載條件下的真實(shí)加速度)。具有速度精度高、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、*的加速度、主動(dòng)式速度調(diào)控、勻膠過程多段程序控制等特點(diǎn)。可用于微電子、半導(dǎo)體、光電器件、新能源、生物材料、光學(xué)器件等領(lǐng)域的各類高精密納米功能涂層的制備。
二. 產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 旋轉(zhuǎn)電機(jī)采用專為勻膠機(jī)設(shè)計(jì)的精密高速伺服電機(jī),具有高精度、高穩(wěn)定性、高可靠性。
2. 優(yōu)異的旋轉(zhuǎn)加速性能,蕞大旋轉(zhuǎn)加速度可達(dá)50000rpm/s(有負(fù)載的真實(shí)加速度)。
3. 兩項(xiàng)安全互鎖功能:
(1) 勻膠腔體具有開啟、關(guān)閉的檢測功能,確保腔體關(guān)閉后才可啟動(dòng),防止勻膠過程中飛片造**身傷害;
(2) 真空吸片具有真空檢測功能,若發(fā)生真空泄漏,基片無法吸附牢固,則立即停止運(yùn)行。
4. 機(jī)身外殼采用SUS304不銹鋼制作,防腐蝕、不生銹、易清潔。
5. 勻膠腔體采用德國勞士領(lǐng)NPP材料,經(jīng)CNC一體加工成型。接儲(chǔ)脫離基片的膠液,避免進(jìn)入真空管路和設(shè)備內(nèi)部。耐腐蝕、易清潔。
6. 旋轉(zhuǎn)吸片臺(tái)采用德國勞士領(lǐng)PEEK材料,經(jīng)CNC一體加工成型。耐高溫、耐腐蝕、不變形。
7. 勻膠過程全自動(dòng)分段程序控制。整個(gè)勻膠過程蕞多可分十段進(jìn)行,每段的加速時(shí)間、旋轉(zhuǎn)速度、勻膠時(shí)間均可精密控制、連續(xù)可調(diào)??蓛?chǔ)存50組工藝程序,隨時(shí)調(diào)用。
8. 7英寸液晶觸摸屏使控制更方便;運(yùn)行狀態(tài)及各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示,更直觀了解勻膠進(jìn)程;
9. 真空泵的開啟與關(guān)閉均為自動(dòng)程序控制,無需手動(dòng)操作。
10. 旋轉(zhuǎn)前增加預(yù)吸片步驟,“預(yù)吸片時(shí)間"蕞多為99s,確保基片牢固吸附于旋轉(zhuǎn)臺(tái)后再進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂膜。勻膠完成后增加解吸片步驟,“解吸片時(shí)間"蕞多為99s,確保安全停止后再切斷真空,釋放基片,防止涂膜后的基片滑落,對(duì)膜層造成損傷。
11. 標(biāo)配無油真空泵,低噪音。大吸力將基片緊緊吸附于旋轉(zhuǎn)臺(tái),防止飛片。
三. 技術(shù)參數(shù)
設(shè)備型號(hào) 技術(shù)參數(shù) | SYSC-300A | SYSC-300B | SYSC-300C |
可鍍膜基片尺寸 | ?10~300mm | ?10~300mm | ?10~300mm |
旋轉(zhuǎn)速度 | 10~6000rpm | 10~8000rpm | 10~10000rpm |
轉(zhuǎn)速分辨率 | 1rpm | 1rpm | 1rpm |
速度精度性 | <0.02% | <0.02% | <0.02% |
旋涂加速度* | 0~30000rpm/s | 0~40000rpm/s | 0~50000rpm/s |
每段加速時(shí)間 | 999.9s | 999.9s | 999.9s |
每段旋涂時(shí)間 | 9999.9s | 9999.9s | 9999.9s |
時(shí)間分辨率 | 0.1s | 0.1s | 0.1s |
預(yù)吸片時(shí)間 | 99s | 99s | 99s |
解吸片時(shí)間 | 99s | 99s | 99s |
* 蕞大旋涂加速度為有負(fù)載條件下(使用≤?100mm基片)的真實(shí)加速度