產(chǎn)品時(shí)間:2024-10-29
硬件參數(shù)指標(biāo) 雙恒電位儀:?jiǎn)魏汶娢浑娢豢刂品秶?#177;10V雙恒電位儀電位控制范圍:±10V 恒電流控制范圍:±2.0A 電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV 電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù) 電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) 電流靈敏度:<10pA 電位上升時(shí)間:<1μS(<10mA),<10μ
雙單元電化學(xué)工作站 雙恒電位儀 電化學(xué)分析儀
型號(hào):CS2350
CS2350雙單元電化學(xué)工作站是基于常規(guī)單通道系列CS350型發(fā)展而來(lái),內(nèi)置兩套獨(dú)立的恒電位/恒電流儀,每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電極輸出,并由Corrtest軟件來(lái)協(xié)調(diào)輸出電位/電流。
CS2350工作時(shí)分主單元和從單元兩路,從單元采用浮地模式實(shí)現(xiàn)對(duì)第二工作電極WEII的電位/電流控制。第二工作電極電位可以保持在獨(dú)立的恒定電位或電流值,也可實(shí)現(xiàn)獨(dú)立于*工作電極的線性掃描或循環(huán)伏案掃描等測(cè)試。
因此,CS2350除了具備單通道工作站的所有特點(diǎn),還可用于電化學(xué)反應(yīng)中間產(chǎn)物的檢測(cè)。
典型應(yīng)用
①配合旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極用于研究電化學(xué)氧化還原體系,在測(cè)量圓盤電極極化曲線的同時(shí),控制圓環(huán)電極于一個(gè)固定的極化電勢(shì),用以檢測(cè)圓盤電極上產(chǎn)生的反應(yīng)中間物,該方法也成為檢測(cè)反應(yīng)中間物和研究電極反應(yīng)機(jī)理的典型流體動(dòng)力學(xué)方法。
②金屬中氫擴(kuò)散測(cè)試,兩個(gè)恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski雙電解池,通過(guò)左側(cè)電解池的陰極充氫和右側(cè)電解的氫原子陽(yáng)極氧化電流測(cè)量,進(jìn)而計(jì)算氫原子在金屬中擴(kuò)散系數(shù)和氫通量。
硬件參數(shù)指標(biāo)
雙恒電位儀:?jiǎn)魏汶娢浑娢豢刂品秶?plusmn;10V 雙恒電位儀電位控制范圍:±10V | 恒電流控制范圍:±2.0A |
電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù) |
電位靈敏度:10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流靈敏度:<10pA |
電位上升時(shí)間:<1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電流量程:2A~200nA, 共8檔 |
參比電極輸入阻抗:1012Ω||20pF | 大輸出電流:2.0A |
槽壓輸出:±21V | 電流掃描增量:1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速度:0.001mV~10000V/s | 電位掃描電位增量:0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈沖寬度:0.0001~65000s | DPV和NPV脈沖寬度:0.0001~1000s |
SWV頻率:0.001~100KHz | CV的小電位增量:0.075mV |
AD數(shù)據(jù)采集:16bit@1MHz,20bit @1kHz | 電流與電位量程:自動(dòng)設(shè)置 |
DA分辨率:16bit,建立時(shí)間:1μS | 低通濾波器 :8段可編程 |
通訊接口:USB2.0 | 儀器重量:6.5Kg |
外形尺寸(cm):36.5(W)X30.5 (D)X16 (H) |
電化學(xué)阻抗測(cè)量參數(shù)
信號(hào)發(fā)生器 | |
頻率響應(yīng):10μHz~1MHz | 交流信號(hào)幅值:1mV~2500mV |
頻率精確度:0.005% | 信號(hào)分辨率:0.1Mv RMS |
直流偏壓:-10V~+10V | DDS輸出阻抗:50Ω |
波形:正弦波,三角波,方波 | 正弦波失真率:<1% |
掃描方式:對(duì)數(shù)/線性,增加/下降 | |
信號(hào)分析器 | |
大積分時(shí)間:106個(gè)循環(huán)或者105S | 測(cè)量時(shí)間延遲:0~105秒 |
小積分時(shí)間:10mS 或者一個(gè)循環(huán)的長(zhǎng)時(shí)間 | |
直流偏置補(bǔ)償 | |
電位補(bǔ)償范圍:-10V~+10V | 電流補(bǔ)償范圍:-1A~+1A |
帶寬調(diào)整:自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置, 共8級(jí)可調(diào) |
CS2350雙單元電化學(xué)工作站功能方
能 方 法 | 主單元 | 從單元 | 能 方 法 | 主單元 | 從單元 | ||
穩(wěn) 態(tài) 極 化 | 開路電位測(cè)量(OCP) | • | • | 溶 出 伏 安 | 恒電位溶出伏安 | • | |
恒電位極化(i-t曲線) | • | • | 線性溶出伏安 | • | |||
恒電流極化 | • | • | 階梯溶出伏安 | • | |||
動(dòng)電位掃描(TAFEL曲線) | • | • | 方波溶出伏安 | • | • | ||
動(dòng)電流掃描(DGP) | • | 交 流 阻 抗 | 電化學(xué)阻抗(EIS)~頻率掃描 | • | • | ||
暫 態(tài) 極 化 | 任意恒電位階梯波 | • | 電化學(xué)阻抗(EIS)~時(shí)間掃描 | • | |||
任意恒電流階梯波 | • | 電化學(xué)阻抗(EIS)~電位掃描(Mott-Schottky曲線) | • | ||||
恒電位階躍(VSTEP) | • | ||||||
恒電流階躍(ISTEP) | • | 腐 蝕 測(cè) 量 | 循環(huán)極化曲線(CPP) | • | • | ||
快速電位脈沖 | • | 線性極化曲線(LPR) | • | • | |||
快速電流脈沖 | • | 動(dòng)電位再活化法(EPR) | • | ||||
計(jì) 時(shí) 分 析 | 計(jì)時(shí)電位法(CP) | • | 電化學(xué)噪聲 (EN) | • | |||
計(jì)時(shí)電流法(CA) | • | 電偶腐蝕測(cè)量 (ZRA) | • | ||||
氫擴(kuò)散測(cè)試(HDT)* | |||||||
計(jì)時(shí)電量法(CC) | • | 電 池測(cè) 試 | 電池充放電測(cè)試 | • | • | ||
伏 安 分 析 | 線性掃描伏安法(LSV) | • | • | ||||
線性循環(huán)伏安法(CV) | • | • | 恒電流充放電 | • | |||
階梯循環(huán)伏安法(SCV) | • | ||||||
差分脈沖伏安法(DPV) | • | 擴(kuò) 展 測(cè) 量 | 盤環(huán)電極測(cè)試 * | • | |||
常規(guī)脈沖伏安法(NPV) | • | 數(shù)字記錄儀 | • | • | |||
方波伏安法(SWV) | • | 波形發(fā)生器 | • | • | |||
交流伏安法(ACV) | • | 圓盤電機(jī)控制 | • | • | |||
常規(guī)差分脈沖伏安法(DNPV) | • | ||||||
二次諧波交流伏安 (SHACV) | • |
儀器配置:
1)儀器主機(jī)1臺(tái)
2)CorrTest測(cè)試與分析軟件1套
3)電解池(含鹽橋和排氣管)2套
4)鉑金電極、參比電極、工作電極各2支
5)模擬電解池1個(gè)
6)電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
7)電極電纜線2條
8)屏蔽箱(選配*)